光刻机掀起涨停潮！指数集体反攻，行情到底稳了吗？

【盘面分析】

美股高位震荡，出现明显的调整迹象，但是受到经济利好的助力，之后仍然可以站稳39000点，随后突破40000点。纵观A股在连续反弹后出现调整，3000点成为了一道难以逾越的鸿沟，指数稍微有点回调，两市个股便出现千股跌停。对于指数而言很容易收复失地，但是大多数个股“大跌小涨”导致套牢盘不断增多，值得注意的是3月份会议召开在即，市场维稳的力度有所增加，可以关注市场消息面和政策面的变化。

骑牛看熊发现作为光刻技术的关键设备，光刻机单台价值量高达上亿美元，其购置成本达到半导体设备总投资的20%以上，是芯片制造前道工艺七大设备之首，有望为人工智能领域创造新的浪潮。当前消费电子有所回暖，半导体国产化进程持续推进，AI带来的算力产业链也将持续受益，半导体行业当前处于周期筑底阶段，待下游行情复苏，将推动半导体新一轮上升周期。

三大指数集体低开，随后纷纷拉升翻红，两市个股涨多跌少，题材板块方面光刻机、半导体、存储芯片等板块表现较强，种业、人造肉、煤炭等板块表现较差。区块链概念活跃，御银股份、智度股份涨停，四方精创、吉大正元等多股涨幅靠前，比特币价格突破60000美元，日内涨超6%，近一个月涨幅超过40%，总市值达到近1.2万亿。上一次比特价格站上6万美元，发生在2021年11月，距今已有28个月。半导体设备板块早盘拉升，新莱应材、耐科装备20CM涨停，SEMI预计2024年全球半导体设备有望达到1053.1亿美元，同比增长4%，其中晶圆制造设备销售额有望达到931.6亿美元，同比增长3%，同比增长有望突破10%。

多模态AI概念股快速反弹，国新文化涨停，开普云、宣亚国际等多股涨超5%，字节跳动正在AI大模型领域秘密研发多个产品，其中包括多模态数字人产品以及AI生图、AI生视频产品等。氢能概念反复活跃，四川金顶3连板，康普顿、洪涛股份等多股涨停，内蒙古三部门联合发布《关于加快推进氢能产业发展的通知》，明确允许在化工园区外建设可再生能源制氢项目，且无需取得危险化学品安全生产许可。CPO概念股震荡拉升，东田微涨近20%，光迅科技、紫光股份等多股涨超5%，中际旭创昨日发布业绩快报，2023年实现营业总收入107.25亿元，同比增长11.23%；净利润21.81亿元，同比增长78.19%。

卫星互联网板块震荡走强，天箭科技、烽火电子等多股涨停，在蓝皮书的发布会上，国内卫星互联网运营商中国卫通透露，将推出更多消费级卫星互联网产品，并与航空公司合作提供航空卫星互联网产品流量套餐。算力概念股再度活跃 中科曙光、高新发展等多股涨超5%，Sora发布以来，全球范围掀起了人工智能关注浪潮，带动A股算力概念热度持续飙升。锂矿股震荡拉升，融捷股份涨停，江特电机、中矿资源等多股涨超5%，碳酸锂期货主力合约日内涨幅扩大至6%，报113600元/吨，碳酸锂期货已连续6个交易日收涨，上涨幅度16.38%。现货方面，碳酸锂现货价格也呈现连续上调态势。

大盘：

创业板：

【大盘预判】

上证指数周四低开高走，盘中冲击3000点一线未能强势突破，依然还是被空头强势打压！权重股和金融股有明显的护盘迹象，但是反弹力度较差，并没有出现真正的反包行情，两市成交量明显增长，这部分资金有进有出。值得注意的是北向资金大幅度净流入，按照牛哥之前提到的一个规律：“北向资金大幅度净买入，第二天往往会出现回调行情。”接下来注意上证指数能否在2970点之上稳住。

创业板指数周四盘中一度涨逾3%，出现了明显的反弹迹象，部分个股有反包走势，但是多数个股还是小幅度上涨，并未将前一天的阴线吞掉。题材板块仍然是轮动行情为主，光刻机板块受到外围消息影响，带动了半导体、芯片板块有所反弹，这里依然不要去追涨，小心变成“隔日黄花”。接下来注意创业板指数能否在1800点之上稳住。

【淘金计划】    

A 股在两会前后存在一定日历效应，具体表现为两会前和两会后两周小盘风格总体占优，中证500、中证1000 表现较好。A股估值水平较上周上行，PE（TTM）为13.4，较上周上行0.6，处于历史估值水平的25.5%分位数。板块估值全部上涨，其中，计算机、传媒和社会服务涨幅居前，房地产、银行和家用电器涨幅居后。随着3月份会议结束，稳增长政策逐渐落地，传统基建链以及地产链等稳增长板块上涨概率更高且平均收益相对也较高。

题材板块中的光刻机、存储芯片、半导体等概念是资金净流入的主要参与板块，煤炭、种业、银行等概念是资金净流出相对较大的板块。骑牛看熊发现光刻机是半导体产业的核心设备，直接决定芯片制程的先进程度，重要性不言而喻，在全球半导体产业持续扩张的趋势下，光刻机市场规模长期可观。

针对下一代光刻机的研发，ASML 目前在研究把EUV 平台的数值孔径（NA）从0.33 提升到0.55（高NA），从而进一步缩小光刻机分辨率，实现2nm 逻辑制程的制造。ASML 预计高NA 设备的研发机型将首先在2023 年底出货，而预计到2025 年将在客户端全面运行起来。

地缘政治摩擦使全球半导体产品的流通受到影响，目前国内厂商已经在光刻机零部件市场的多个环节实现突破，建议关注国产光刻机相关产业链。光刻机全球市场172亿美金，其市场份额在晶圆生产设备中占比为20%，是半导体设备第二大品类。

随着半导体产业不断迭代，其加工工艺亦面临重重挑战。 光刻机光学系统的作用是通过光学透镜将芯片图案缩小并映射到硅片上，是整个光刻机的核心，光刻机光学部件的精度和性能决定了芯片的制造精度、性能、成本、效率。而在芯片生产过程中最大的挑战之一，即是光刻工艺，其决定了芯片晶体管尺寸的大小，从而直接影响芯片性能和功耗。