替代光刻机？纳米压印技术被看好（附股）

10月13日，日本光学设备厂佳能公司宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备执行电路图案转移，是最重要的半导体制造工艺。

就在上月末，据DIGITIMES资讯显示，SK海力士2023年引进佳能纳米压印微影（Nano Imprint Lithography；NIL）生产设备，目标在2025年左右将该设备用于3D NAND量产。

随着掩模技术的进一步改进，纳米压印技术有望使电路图案化的最小线宽为10nm，这对应于2nm节点。

纳米压印技术（NIL）是一种新型的微纳加工技术，该技术将设计并制作在模板上的微小图形，通过压印等技术转移到涂有高分子材料的硅基板上。

纳米压印的分辨率由所用印模板图形的大小决定，物理上没有光刻中的衍射限制，纳米压印技术可以实现纳米级线宽的图形。

纳米压印光刻造芯片通过将印有电路图案的掩模压印在晶圆上的抗蚀剂上，脱模后得到一颗芯片。

纳米压印设备被多家日本半导体设备厂商视作替代光刻机的“下一代设备”，担负着以低成本制成尖端微细电路的使命。对比EUV光刻工艺，使用纳米压印光刻工艺制造芯片，能够降低将近四成制造成本和九成电量。

A股市场中，布局纳米压印相关业务的个股约有10只。

汇创达表示，公司立足微纳米热压印技术，致力于研发透光率高、量轻、所需能耗小的导光产品，背光模组是公司基于自身导光膜产品结合微纳米热压印工艺的延伸产品，是公司的主营产品之一。微纳米热压印工艺主要用于背光模组产品，不涉及光刻机领域。

利和兴称，公司全自动纳米压印生产线技术运用快速精密对位、非接触精确测厚、精密缺陷检测、光透传感、位移及角度补偿等自动控制相关技术，结合纳米压印的纳米模压技术与固化技术，把纳米压印行业内的单机手工作业方式改变为全工序自动化方式。具体应用尚待后续验证。公司暂无光刻相关技术及产品。

水晶光电表示，纳米压印和光刻是两种不同的加工技术，公司都有掌握。目前纳米压印技术主要用在半导体光学产品中。

美迪凯的控股子公司美迪凯（浙江）智能光电科技有限公司在纳米压印制程领域，具有自主知识产权及核心技术，公司采用灰度光刻、纳米压印及晶圆封装工艺成功开发了一种无基材晶圆级压印光学模组技术，突破性地解决了现有业内光学模组小型化、薄型化的难题，且开发的微形光学模组可集成ARS微纳结构实现抗反射光学性能。

晶方科技称，公司控股公司荷兰Anteryon公司的纳米压印早在2008年就开发了包括微透镜在内的晶圆级镜头工艺，公司控股子公司晶方光电在苏州的纳米压印产线从2019年开始也将此工艺应用在车用照明产品中。

苏大维格：公司高端智能装备包括直写光刻、3D光刻、投影/扫描光刻、纳米压印光刻设备等，部分直写光刻设备已向国内外高校及科研院所、国内企业等销售。

奥比中光已完成衍射光波导全光学系统的功能设计与仿真，并探索纳米压印技术中清洗、匀胶、增粘、烘胶、压印和脱模等工艺。

腾景科技准备成立南京分公司，进行衍射光波导纳米压印产品开发（衍射光波导涉及表面浮雕光波导和全息体光栅波导）。2023年上半年，公司新增纳米压印衍射波导片项目。

炬光科技表示，目前已布局的光学加工工艺包括晶圆级同步结构化技术、精密模压、冷加工、注塑、纳米压印等，得以覆盖无机材料、有机高分子材料等各类微光学元器件的加工制备。

歌尔股份：公司较早开展在光波导、纳米压印等AR光学核心产品和工艺领域内的探索，并已经积累了AR核心器件、模组以及AR整机项目的相关项目经验。