联合化学(301209.SZ)：芯颐和本次交付的曝光光学系统主要用于半导体前道光刻设备整机集成

格隆汇7月29日丨联合化学(301209.SZ)在投资者互动平台表示，经了解核实，公司投资参股的米莱芯程其全资子公司芯颐和已于2026年6月30日顺利发运首套曝光光学系统（包含自主研发制造的首套iline照明系统与首套iline投影物镜），并交付国内头部光刻机厂商。光学系统的技术难度主要涉及光学设计、元器件加工、装调、测试、标定、补偿、上机验证等多个环节，技术壁垒高，交付后仍需匹配下游客户整机进行性能及可靠性验证。芯颐和本次交付的曝光光学系统主要用于半导体前道光刻设备整机集成。目前，公司对米莱芯程的持股比例为37.2760%。