中微公司(688012)：26Q1业绩超预期高端产品矩阵丰富-格隆汇

机构：国盛证券
研究员：佘凌星

　　中微公司发布26Q1 业绩报告。公司26Q1 实现营收29.15 亿元，同比增长34.13%，实现归母净利润9.30 亿元，同比增长197.20%，实现扣非归母净利润约4.78 亿元，同比增长60.09%，实现毛利率39.89%，同比-1.65pct，扣非销售净利润率16.38%，同比+2.65pcts。26Q1 公司利润高增主要系：1）营收增长34.13%下，毛利较上年增长约2.60 亿元；2）公司研发支出较上年同期增长2.21 亿元（增长32.15%），研发支出占公司营收比例约为31.14%；3）公司26Q1 出售了部分持有的拓荆科技股票，产生税后净收益约3.97 亿元。
　　产品矩阵逐步完备，高端设备布局演进。公司累计已有超过8300 个反应台在国内外180 余条客户芯片及LED 生产线全面量产。以远高于科创板上市公司的平均研发投入水平，推进六大类、超20 款新设备的研发。
　　1）刻蚀设备：公司针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升。在先进存储器件制造工艺中，公司完全自主开发的针对超高深宽比刻蚀工艺的刻蚀机已有300 多台反应器实现了稳定可靠的大规模量产。CCP 方面，下一代90:1 超高深宽比低温刻蚀设备已运付客户端进行验证，公司已全面覆盖存储器刻蚀应用中各类超高深宽比需求；ICP 方面，适用于新一代逻辑和存储芯片制造用的第二代ICP 刻蚀设备Primo Angnova TM 在3D DRAM 应用中取得140:1 的高深宽刻蚀结果和形貌控制能力，并付运到国内领先存储客户端认证。全新化学气相刻蚀设备Primo Domingo TM 实现大于700:1的业界领先 SiGe/Si 高选择比，在 GAA 和 3关DD键R工AM艺的实验室验证中，展现优异的刻蚀性能，全面满足客户的各项工艺指标要求2）薄膜设备：公司在短时间内成功开发出十多种薄膜设备，包括LPCVD、ALD、EPI、PVDCuBS 和PECVD 等产品在先进存储和先进逻辑市场新增付运量保持快速增长。公司为先进逻辑和先进存储器件金属栅应用开发的ALD 系列产品，设备性能达到国际领先水平同时，表现出更优异生产效率。同时，可用于先进半导体器件制造的核心金属薄膜沉积产品正在开发，项目顺利推进中。公司所开发的多款核心介质沉积设备有序推进。公司减压EPI 设备已在成熟制程客户端验证成功，也已付运先进制程客户端，部分先进工艺已进入量产验证阶段；常压外延设备现已完成开发，进入晶圆验证阶段。
　　3） MOCVD 设备：公司持续保持国际氮化镓基MOCVD 设备市场领先地位，积极布局用于SiC 和GaN 基功率器件应用的市场，并在Micro-LED 和其他显示领域的专用MOCVD 设备开发上取得了良好进展。四款MOCVD 新产品包括用于SiC 和GaN 功率器件的MOCVD，用于MicroLED 的GaN MOCVD 和用于红黄光LED 的GaAs MOCVD 设备已进入客户端验证阶段，并且部分得到批量订货。
　　盈利预测及投资建议：公司作为国内半导体刻蚀设备龙头，近年来专注于加速设备平台化，我们认为伴随公司研究成果高效转化，有望进一步支撑营收业绩增长，预计公司2026-2028 年有望实现营收169/224/291 亿元，有望实现归母净利润33/42/55 亿元，维持“买入”评级。
　　风险提示：下游需求不及预期、地缘政治风险、产品进展不及预期。

中微公司(688012)：26Q1业绩超预期 高端产品矩阵丰富

中微公司(688012)：26Q1业绩超预期高端产品矩阵丰富