【容大感光：彩色滤光片用RGB光刻胶项目已经实现少量销售】格隆汇12月2日｜容大感光在互动平台表示，KrF（248nm）光刻胶项目已完成了光刻机等核心设备的配置工作，目前正积极开展相关产品的研发工作；彩色滤光片用RGB光刻胶项目已经实现少量销售，部分客户正在开展转厂产品验证，部分客户正在测试定制开发的样品；OLED/LTPS用高分辨正性光刻胶项目已经完成实验室开发，正在对接客户资源，等待测试机会。格隆汇12月2日｜容大感光在互动平台表示，KrF（248nm）光刻胶项目已完成了光刻机等核心设备的配置工作，目前正积极开展相关产品的研发工作；彩色滤光片用RGB光刻胶项目已经实现少量销售，部分客户正在开展转厂产品验证，部分客户正在测试定制开发的样品；OLED/LTPS用高分辨正性光刻胶项目已经完成实验室开发，正在对接客户资源，等待测试机会。

【A股光刻胶板块拉升，容大感光涨超16%，南大光电涨超9%】格隆汇12月1日｜受相关传闻影响，A股市场光刻胶板块拉升，其中，容大感光涨超16%，国风新材、兴业股份10CM涨停，南大光电涨超9%，彤程新材、佳先股份、格林达、航天智造、高盟新材、晶赛科技涨超6%，波长光电、新莱应材、沃格光电涨超5%。格隆汇12月1日｜受相关传闻影响，A股市场光刻胶板块拉升，其中，容大感光涨超16%，国风新材、兴业股份10CM涨停，南大光电涨超9%，彤程新材、佳先股份、格林达、航天智造、高盟新材、晶赛科技涨超6%，波长光电、新莱应材、沃格光电涨超5%。

【公司问答丨久日新材：公司生产的光刻胶产品及光刻胶核心原材料重氮萘醌类光敏剂产品可实现国产替代】格隆汇11月24日｜有投资者在互动平台向久日新材提问：公司光刻胶相关产品是否可以实现对日本产品的国产替代？久日新材回复称，公司生产的光刻胶产品及光刻胶核心原材料重氮萘醌类光敏剂产品可实现国产替代。格隆汇11月24日｜有投资者在互动平台向久日新材提问：公司光刻胶相关产品是否可以实现对日本产品的国产替代？久日新材回复称，公司生产的光刻胶产品及光刻胶核心原材料重氮萘醌类光敏剂产品可实现国产替代。

【A股异动丨光刻胶概念股逆势上涨，凯美特气涨停】格隆汇11月21日｜A股市场光刻胶概念股逆势上涨，其中，高盟新材涨超13%，赛微电子涨超11%，国风新材、凯美特气10CM涨停，华软科技涨超7%，上海新阳涨5%，华特气体、佳先股份、彤程新材、南大光电涨超4%。消息面上，11月20-21日，2025·光刻胶及集成电路材料先进技术和产业应用研讨会将举行，主题“光刻突围 材聚绍兴”。格隆汇11月21日｜A股市场光刻胶概念股逆势上涨，其中，高盟新材涨超13%，赛微电子涨超11%，国风新材、凯美特气10CM涨停，华软科技涨超7%，上海新阳涨5%，华特气体、佳先股份、彤程新材、南大光电涨超4%。消息面上，11月20-21日，2025·光刻胶及集成电路材料先进技术和产业应用研讨会将举行，主题“光刻突围 材聚绍兴”。

【华融化学：目前尚未导入光刻胶或光刻机相关领域客户】格隆汇11月20日｜华融化学(301256.SZ)发布股票交易异常波动的公告，公司主要产品为氢氧化钾及多种含氯产品，部分电子级化学品可用于半导体、光伏领域的蚀刻、清洗环节，公司目前尚未导入光刻胶或光刻机相关领域客户。格隆汇11月20日｜华融化学(301256.SZ)发布股票交易异常波动的公告，公司主要产品为氢氧化钾及多种含氯产品，部分电子级化学品可用于半导体、光伏领域的蚀刻、清洗环节，公司目前尚未导入光刻胶或光刻机相关领域客户。

【A股光刻胶股集体走强，国风新材、百川股份涨停】格隆汇11月20日｜A股市场光刻胶概念股集体上涨，其中，国风新材、百川股份涨停，富祥药业、东材科技涨超7%，腾景科技涨超5%，上海新阳、苏大维格涨超4%。消息面上，11月20-21日，2025·光刻胶及集成电路材料先进技术和产业应用研讨会将举行，主题“光刻突围 材聚绍兴”。格隆汇11月20日｜A股市场光刻胶概念股集体上涨，其中，国风新材、百川股份涨停，富祥药业、东材科技涨超7%，腾景科技涨超5%，上海新阳、苏大维格涨超4%。消息面上，11月20-21日，2025·光刻胶及集成电路材料先进技术和产业应用研讨会将举行，主题“光刻突围 材聚绍兴”。

【A股光刻胶概念股走强，南大光电涨超4%】格隆汇11月19日｜A股市场光刻胶概念股走强，其中，赛微电子涨14%，腾景科技涨超11%，国风新材10CM涨停，彤程新材涨7%，东方嘉盛涨超6%，南大光电涨超4%，新莱应材、兴业股份、联合化学、佳先股份涨超3%。格隆汇11月19日｜A股市场光刻胶概念股走强，其中，赛微电子涨14%，腾景科技涨超11%，国风新材10CM涨停，彤程新材涨7%，东方嘉盛涨超6%，南大光电涨超4%，新莱应材、兴业股份、联合化学、佳先股份涨超3%。

【A股光刻机概念股走强，同益股份、凯美特气涨停】格隆汇11月18日｜A股市场光刻机概念股走强，其中，同益股份20CM涨停，凯美特气10CM涨停，北方华创、芯源微、新莱应材、晶赛科技等跟涨。格隆汇11月18日｜A股市场光刻机概念股走强，其中，同益股份20CM涨停，凯美特气10CM涨停，北方华创、芯源微、新莱应材、晶赛科技等跟涨。

【艾森股份：KrF光刻胶下一步将在头部晶圆厂上线测试】格隆汇11月13日｜艾森股份(688720.SH)发布投资者关系活动记录表，目前公司KrF光刻胶AR（深宽比）>13，主要应用于CISisolation等高深宽比结构，包括存储芯片的相应结构，下一步将在头部晶圆厂上线测试。格隆汇11月13日｜艾森股份(688720.SH)发布投资者关系活动记录表，目前公司KrF光刻胶AR（深宽比）>13，主要应用于CISisolation等高深宽比结构，包括存储芯片的相应结构，下一步将在头部晶圆厂上线测试。

【华懋科技：股东拟合计减持不超1.55%公司股份】格隆汇11月13日｜华懋科技(603306.SH)公告称，公司董事兼总经理张初全及其一致行动人懋盛（厦门）企业管理咨询有限责任公司因个人资金需要，计划通过集中竞价或大宗交易方式合计减持不超过509.62万股，占公司总股本的1.55%。其中，张初全直接减持不超过348.37万股（占比1.06%），懋盛间接减持不超过161.24万股（占比0.49%）。减持期间为2025年12月5日至2026年3月4日。格隆汇11月13日｜华懋科技(603306.SH)公告称，公司董事兼总经理张初全及其一致行动人懋盛（厦门）企业管理咨询有限责任公司因个人资金需要，计划通过集中竞价或大宗交易方式合计减持不超过509.62万股，占公司总股本的1.55%。其中，张初全直接减持不超过348.37万股（占比1.06%），懋盛间接减持不超过161.24万股（占比0.49%）。减持期间为2025年12月5日至2026年3月4日。

【上海新阳：公司光刻胶已实现批量化销售 整体销售规模持续增加】格隆汇11月5日｜上海新阳(300236.SZ)在机构调研时表示，公司依托自身的技术优势和持续的研发投入，已建成包括I线、KrF、ArF干法、ArF浸没式各类光刻胶在内的完整的研发合成、配制生产、质量管控、分析测试平台，已为国内多家芯片企业提供多品类光刻胶产品。目前，公司光刻胶已实现批量化销售，整体销售规模持续增加。格隆汇11月5日｜上海新阳(300236.SZ)在机构调研时表示，公司依托自身的技术优势和持续的研发投入，已建成包括I线、KrF、ArF干法、ArF浸没式各类光刻胶在内的完整的研发合成、配制生产、质量管控、分析测试平台，已为国内多家芯片企业提供多品类光刻胶产品。目前，公司光刻胶已实现批量化销售，整体销售规模持续增加。

【龙虎榜丨凯美特气跌停，深股通净卖出1.45亿元，三机构净卖出1.08亿元】格隆汇11月3日｜凯美特气(002549.SZ)今日跌停，换手率17.62%，成交额30.27亿元。龙虎榜数据显示，深股通买入9500万元，卖出2.4亿元，净卖出1.45亿元；三家机构买入274万元，卖出1.1亿元，净卖出1.08亿元。上榜席位全天买入2.35亿元，卖出4.71亿元，合计净卖出2.36亿元。(格隆汇)格隆汇11月3日｜凯美特气(002549.SZ)今日跌停，换手率17.62%，成交额30.27亿元。龙虎榜数据显示，深股通买入9500万元，卖出2.4亿元，净卖出1.45亿元；三家机构买入274万元，卖出1.1亿元，净卖出1.08亿元。上榜席位全天买入2.35亿元，卖出4.71亿元，合计净卖出2.36亿元。(格隆汇)

【A股异动丨取得新突破，光刻胶概念股集体走强，万润股份、格林达等多股涨停】格隆汇10月27日｜A股市场光刻胶概念股集体走强，其中，晶瑞电材涨超17%，锦华新材涨超14%，佳先股份涨超10%，万润股份、格林达、彤程新材10CM涨停，南大光电涨超9%，江化微、联合化学涨超7%，飞凯材料、艾森股份、八亿时空涨超6%，容大感光、久日新材、富创精密、泰和科技、百川股份涨超5%。消息面上，我国在光刻胶领域取得新突破。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。格隆汇10月27日｜A股市场光刻胶概念股集体走强，其中，晶瑞电材涨超17%，锦华新材涨超14%，佳先股份涨超10%，万润股份、格林达、彤程新材10CM涨停，南大光电涨超9%，江化微、联合化学涨超7%，飞凯材料、艾森股份、八亿时空涨超6%，容大感光、久日新材、富创精密、泰和科技、百川股份涨超5%。消息面上，我国在光刻胶领域取得新突破。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。

【光刻胶领域，我国取得新突破】格隆汇10月25日｜据科技日报，光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。相关论文近日刊发于《自然·通讯》。为破解难题，研究团队首次将冷冻电子断层扫描技术引入半导体领域。研究人员最终合成出一张分辨率优于5纳米的微观三维“全景照片”，一举克服了传统技术无法原位、三维、高分辨率观测的三大痛点。格隆汇10月25日｜据科技日报，光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。相关论文近日刊发于《自然·通讯》。为破解难题，研究团队首次将冷冻电子断层扫描技术引入半导体领域。研究人员最终合成出一张分辨率优于5纳米的微观三维“全景照片”，一举克服了传统技术无法原位、三维、高分辨率观测的三大痛点。

【三星电子计划投资1.1万亿韩元引进最新的High-NA EUV光刻机】格隆汇10月16日｜据韩国经济日报，三星电子计划投入约1.1万亿韩元引进两台最新的High-NA双级极紫外(EUV)光刻机。据业内人士透露，三星电子此前仅在京畿道园区引进过一台用于研发的High-NA EUV设备，此次引进的机器将用于“产品量产”。三星电子计划在年内引进一台，并在明年上半年再引进一台。格隆汇10月16日｜据韩国经济日报，三星电子计划投入约1.1万亿韩元引进两台最新的High-NA双级极紫外(EUV)光刻机。据业内人士透露，三星电子此前仅在京畿道园区引进过一台用于研发的High-NA EUV设备，此次引进的机器将用于“产品量产”。三星电子计划在年内引进一台，并在明年上半年再引进一台。