格隆汇6月5日丨拓荆科技(688072.SH)在互动平台表示,公司研制的PECVD设备不用于SiC外延片衬底制造,但可以用于SiC衬底的芯片制造,公司PECVD设备可以通过控制气流场、射频场、温度场的分布有效改进薄膜生长速率均匀性。