黄仁勋：中国2030年搞定国产先进光刻机

格隆汇9月15日｜英伟达CEO黄仁勋在All-In峰会上判断，中国到2030年就能做出自己的先进光刻系统。他还认为，一旦技术成熟，中国有很强的大规模生产能力，国产设备进入本土晶圆厂只是时间问题。

这个判断明显比蔡司更乐观。蔡司半导体负责人Frank Rohmund最近称，中国要做出国产EUV光刻机，可能还需要约15年。蔡司是阿斯麦EUV光学系统的核心供应商。

不过主持人问的是“advanced lithography systems”，没有具体限定为EUV，黄仁勋在回答中也没有进一步说是EUV。