阿斯麦High-NA EUV光刻机取得突破 成功印刷10纳米线宽图案

格隆汇4月18日｜荷兰阿斯麦公司宣布，其首台采用0.55数值孔径 (NA) 投影光学系统的高数值孔径 (High-NA) 极紫外 (EUV) 光刻机已经成功印刷出首批图案，这标志着ASML公司以及整个高数值孔径EUV光刻技术领域的一项重大里程碑。