韬定律提升能力！余承东：EUV光刻机国内目前正在研发

格隆汇10月9日｜据快科技，近日，余承东受邀和多家国际主流媒体的记者展开深度交流，重点围绕华为消费者业务的后续发展规划，以及HarmonyOS生态系统的搭建现状做了全面分享。交流过程中，有记者接连问到行业关注度极高的AI落地、终端硬件迭代、EUV光刻机研发等相关问题，余承东全程没有回避，给出了非常坦诚务实的回应。

他明确表态，极紫外光刻设备当然是制造最顶尖先进芯片的关键核心设备，这是全球半导体行业公认的事实，没有任何可以模糊讨论的空间。

余承东也直接透露，目前国内相关领域的科研团队和产业伙伴正在全力攻坚研发这类设备，不过现阶段国内量产芯片的主流工艺路径，还是依托已经完全实现国产化的深紫外光刻设备来推进。