研报掘金丨半导体材料先行者,光刻胶产品正在客户测试阶段!

公司凭借高纯试剂在下游圆晶厂的卡位优势及技术先发优势继续巩固领军者地位!

【券商关注理由】 公司为国内最先一批研制并实现商业化的光刻胶企业,目前多项光刻胶配方技术已形成专利,同时自购的ASMLXT1900Gi型ArF浸入式光刻机已于2021年1月19日运抵公司; 公司已拥有二十余种高纯湿化学品产品,其中浓硫酸、氨水及双氧水纯度已经达到电子级G5级别; 【风险预警】 高纯...
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