光刻胶板块异动拉升！南大光电（300346.SZ）ArF光刻胶或取得重要突破

5月25日，光刻胶板块异动走强，南大光电、广信材料涨停，江化微、飞凯材料、容大感光等快速跟涨。 

来源于：Wind

值得注意的是，近期光刻胶受市场炒作情绪影响较大，包括容大感光、晶瑞股份、强力新材等概念股股价上扬冲高较为明显。

而这一涨势主要是源于消息面上的利好，即此前南大光电在互动平台表示，公司的ArF光刻胶正在按计划进行客户测试，而这也意味着国内的ArF光刻胶技术或取得重要突破，开始从研发走向生产。

该公司于2017年开始研发“193nm 光刻胶项目”，已获得国家“02专项”的相关项目立项，计划通过3年的建设、投产及实现销售，达到年产25吨193nm（ArF干式和浸没式）光刻胶产品的生产规模。

纵观目前全球光刻胶的市场格局，主要由海外国家垄断，市场集中度较高，其中，日本合成橡胶（JSR）、东京应化（TOK）、住友化学、信越化学、美国罗门哈斯等所占市场份额超过八成。

然而，我国由于市场起步较晚，整体技术水平还未跟上头部部队，生产产能主要集中在PCB光刻胶、TN/STN-LCD光刻胶等中低端产品，对于193nm的ArF光刻胶等高端产品还在攻关之中。而南大光电走出的这一步或将积极激发我国相关入局企业的技术活力，进而促进市场空间再次扩容。

浙商证券指出，2020年~2022年是我国大陆晶圆厂投产高峰期，未来3年或将迎来密集投产。根据光刻胶的特性来推断，新建晶圆厂将是光刻胶国产代替的主要发展企业，为其打开了最佳代替窗口。

中银国际指出，根据目前国内晶圆厂的建设速度和规划，预计2022年国内半导体光刻胶市场或将是2019年的两倍，约55亿元。同时，国家大基金二期注册资本2041.5亿元，投资方向主要在半导体设备与材料领域。光刻胶作为光刻工艺中重要的半导体材料，自主可控离不开光刻胶国产化，强烈看好半导体设备与材料。其中，对于大基金二期投资的半导体设备，建议关注大基金一期尚未涉足的光刻工艺、离子注入、CMP、硅片生长与加工、封装等的设备领域。