五部委：对关键核心技术中的重大科学问题给予长期支持

科技部、发展改革委、教育部、中科院与自然科学基金委印发《加强“从0到1”基础研究工作方案》，《方案》提出，国家科技计划突出支持关键核心技术中的重大科学问题。面向国家重大需求，对关键核心技术中的重大科学问题给予长期支持。重点支持人工智能、网络协同制造、3D打印和激光制造、重点基础材料、先进电子材料、结构与功能材料、制造技术与关键部件、云计算和大数据、高性能计算、宽带通信和新型网络、地球观测与导航、光电子器件及集成、生物育种、高端医疗器械、集成电路和微波器件、重大科学仪器设备等重大领域，推动关键核心技术突破。

业内人士表示，光掩膜及光刻胶是光刻环节中的关键材料，2018年对应全球市场分别为17.3、40.4亿美元。二者市场主要为日本及欧美企业垄断，国产化率水平低。以光刻胶行业为例，对应主流制程的KrF型光刻胶国产化率仅5%，ArF型光刻胶基本依赖进口。行业内已有多家公司开展相关研发和产业化项目，预计两种材料将在未来加快国产替代进程。

公司方面，晶瑞股份（300655.SZ）i线光刻胶已向中芯国际、福顺微电子等客户供货。南大光电（300346.SZ）在自主创新和产业化的193nm光刻胶项目，已获得国家02专项“193nm光刻胶及配套材料关键技术研究项目”和“ArF光刻胶开发和产业化项目”的正式立项。