行业对于纳米压印技术的实际价值仍存广泛争议

格隆汇6月9日｜据快科技，杭州璞璘科技(Prinano)近日通过官方微信公众号宣布，与深圳力策科技合作采用自主研发的真空气压式纳米压印方案，实现8英寸光芯片可规模化量产验证。据报道，该技术完全绕开传统深紫外(DUV)光刻路线，将光芯片制造成本压缩至DUV方案的十分之一，为受ASML光刻机出口限制的中国芯片产业带来了新的曙光。

此次量产突破的核心是璞璘科技自主研发的PL-AS真空气压式晶圆级纳米压印光刻设备，配合定制化双层压印胶材料体系与核心工艺，整个生产过程无需使用ASML的DUV光刻机。目前，该技术已在多个光芯片领域实现量产验证，这些光芯片广泛应用于光通信、传感和激光雷达领域。

不过，行业对于纳米压印技术的实际价值仍存在广泛争议。《南华早报》指出，该技术在量产规模、良率以及非光子芯片领域的适用性尚未得到充分验证。